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短沟道 MoS2 晶体管中的陷阱辅助空间电荷限制输运

介观与纳米尺度物理 2013-09-17 v1

摘要

我们展示了高源漏偏压下短沟道 MoS2_2 场效应器件的温度依赖性 IVI-V 测量结果。我们发现,虽然 IVI-V 特性在低偏压下呈欧姆性,但在高 VDSV_{DS} 下导电变为空间电荷限制,并观察到指数分布的陷阱态存在。还确定了与温度无关的临界漏源电压 (VcV_c)。陷阱态密度由 VcV_c 定量计算得出。文中还讨论了这些器件中指数陷阱分布的可能起源。

关键词

引用

@article{arxiv.1308.4858,
  title  = {Trap-assisted space charge limited transport in short channel MoS2 transistor},
  author = {Subhamoy Ghatak and Arindam Ghosh},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1308.4858},
  year   = {2013}
}

备注

5 pages, 3 figures