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低强度情形下随机交织中的化学距离

概率论 2023-01-03 v2

摘要

d5d\ge 5Zd\mathbb{Z}^d 中,我们考虑与低强度 u1u \ll 1 下随机交织中化学距离相关的时间常数 ρu\rho_u。我们证明了阶为 u1/2u^{-1/2} 的上界和阶为 u1/2+εu^{-1/2+\varepsilon} 的下界。该上界与所推测的尺度一致,即随着 u0u\to 0u1/2ρuu^{1/2}\rho_u 收敛到欧几里得范数的常数倍。在证明过程中,我们获得了两个同心盒边界之间化学距离的局部下界,这或许具有独立意义。对于上界和下界,本文均采用在 u0u\to 0 时成立的概率界;这些界在将来研究低强度几何时可能相关。

关键词

引用

@article{arxiv.2112.13390,
  title  = {The chemical distance in random interlacements in the low-intensity regime},
  author = {Sarai Hernandez-Torres and Eviatar B. Procaccia and Ron Rosenthal},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2112.13390},
  year   = {2023}
}

备注

39 pages, 8 figures. Several corrections after a major revision