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通过周期驱动实现高阶拓扑绝缘体

介观与纳米尺度物理 2020-06-24 v3

摘要

我们在理论上研究了一种基于平方晶格的周期驱动半金属。基于 Floquet 哈密顿量图像,已证明从半金属相出发,可以构造具有 Floquet 边缘态的 Floquet 拓扑绝缘体以及容纳拓扑角模的 Floquet 高阶拓扑绝缘相。体准能谱中发生拓扑相变,随着驱动振幅的变化,陈数(Chern number)从 +1+1 变为 1-1。这可归因于圆偏振光导致的破缺时间反演不变性(T\mathcal{T})。当通过添加 Wilson 质量项在破缺 T\mathcal{T} 的同时也破缺离散四重旋转对称性(C4\mathcal{C}_4)时,可以实现在所有角处容纳能隙内模的高阶拓扑绝缘体(HOTI)。由 Floquet 态计算的 Floquet 四极矩表现出 0.5 0.5(模 1)的量子化值,从而标识 HOTI 相。我们还展示了在中等频率区间准能量 ω/2\omega/2 处出现的{\it{修饰角模}}(准静态高频极限中零模的残余),其中 ω\omega 为驱动频率。

关键词

引用

@article{arxiv.1911.09361,
  title  = {Higher Order Topological Insulator via Periodic Driving},
  author = {Arnob Kumar Ghosh and Ganesh C. Paul and Arijit Saha},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1911.09361},
  year   = {2020}
}

备注

This is the published version