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利用周期驱动产生高阶拓扑绝缘体

介观与纳米尺度物理 2024-09-16 v1 材料科学

摘要

拓扑绝缘体~(TIs) 是一类新型材料,在体带隙方面类似于普通带绝缘体,但在其边界上展现受保护的金属态。在这一现代方向中,高阶 TIs~(HOTIs) 是 d>1d>1 维的一类新型 TIs。这些 HOTIs 具有 (d1)(d - 1) 维边界,与常规 TIs 不同,它们不通过无隙态导电,而是其自身就是 TIs。确切地说,一个第 nndd 维高阶拓扑绝缘体的特征在于其 dc=(dn)d_c=(d-n) 维边界上存在边界模。例如,三维第二(第三)阶 TI 在棱(角)上承载无隙(局域)模,以 dc=1(0)d_c = 1 (0) 为特征。类似地,二维二阶 TI 仅具有局域角态(dc=0d_c = 0)。这些高阶相由各种晶体以及离散对称性保护。拓扑相的非平衡可调性一直是一项重大学术挑战,而周期 Floquet 驱动为我们提供了克服该障碍的黄金机会。在此,我们讨论不同的周期驱动协议,以从非拓扑或一阶拓扑相出发产生 Floquet 高阶 TIs。此外,我们强调可以产生动力学反常 π\pi-模以及伴随的 00-模。前者只能在动力学设置中实现。我们以系统的方式举例说明了二维和三维中的 Floquet 高阶拓扑模。特别地,在二维中,我们展示了一个承载 00- 和 π\pi 角模的 Floquet 二阶 TI。而三维 Floquet 二阶 TI 和 Floquet 三阶 TI 分别表现出一维和零维的棱模和角模。

关键词

引用

@article{arxiv.2311.17018,
  title  = {Generation of higher-order topological insulators using periodic driving},
  author = {Arnob Kumar Ghosh and Tanay Nag and Arijit Saha},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2311.17018},
  year   = {2024}
}

备注

Invited Topical Review Article for JPCM. This is the published version