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溅射系统制备钴薄膜及其磁性表征

材料科学 2009-10-29 v1

作者: Mustafa Erkovan

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摘要

采用磁控溅射沉积技术生长了不同厚度的钴薄膜。利用X射线光电子能谱(XPS)和石英晶体监测(QCM)测定了薄膜厚度。XPS还用于测定薄膜质量。通过铁磁共振(FMR)技术测定了薄膜的磁性能。

关键词

钴薄膜磁控溅射 X射线光电子能谱石英晶体监测铁磁共振磁性表征

引用

@article{arxiv.0910.5452,
  title  = {Preparation of Cobalt Thin Films by Sputtering Systems and Its Magnetic Characterization},
  author = {Mustafa Erkovan},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0910.5452},
  year   = {2009}
}

备注

14 pages, 6 figures