高能脉冲激光沉积制备的硼薄膜
材料科学
2017-10-23 v2
摘要
在室温下，通过脉冲激光沉积技术在真空环境中于多种衬底上沉积了微米级厚度的硼薄膜。使用高能脉冲（>700 mJ）即使在 - Pa 的本底气压下也能沉积出具有低氧吸收的光滑涂层。通过 X 射线衍射和拉曼光谱进行的详细结构分析，得以评估沉积薄膜的非晶态性质，并确定了防止氧化硼形成的本底气压。此外，对结晶动力学进行了表征，表明薄膜结晶度在相对较低的温度（800 °C）下即开始改善。硼薄膜的弹性性质已通过布里渊光谱测定。最后，利用显微硬度测试探索了沉积在铝、硅和氧化铝上的硼薄膜的内聚力和硬度。所报道的沉积策略能够生长可靠的硼涂层，为其在众多技术领域的应用铺平了道路。
引用
@article{arxiv.1710.07202,
title = {Boron films produced by high energy Pulsed Laser Deposition},
author = {David Dellasega and Valeria Russo and Andrea Pezzoli and Claudia Conti and Nora Lecis and Edoardo Besozzi and Marco Beghi and Carlo E. Bottani and Matteo Passoni},
journal= {arXiv preprint arXiv:1710.07202},
year = {2017}
}
备注
The research leading to these results has also received funding from the European Research Council Consolidator Grant ENSURE (ERC-2014-CoG No. 647554)