外延二硼化钛薄膜的脉冲激光沉积
材料科学
2009-11-10 v1 超导电性
摘要
通过脉冲激光烧蚀技术在蓝宝石衬底上沉积了外延二硼化钛薄膜。在生长过程中通过反射高能电子衍射（RHEED）和异位X射线衍射技术研究了薄膜的结构性质；两种测量均表明TiB2薄膜在面内和沿c轴方向具有良好的晶体取向。通过原子力显微镜成像观察到平坦表面。室温电阻率比单晶报道值高五倍。薄膜在高温下也非常稳定，这使其作为生长二硼化镁薄膜的缓冲层材料非常有前景。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0304680,
title = {Pulsed Laser Deposition of epitaxial titanium diboride thin films},
author = {V. Ferrando and D. Marre' and P. Manfrinetti and I. Pallecchi and C. Tarantini and C. Ferdeghini},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0304680},
year = {2009}
}
备注
14 pages, 5 figures, in press on Thin Solid Films