磁控溅射Si与Ge薄膜的结构、光学及电子特性
应用物理
2017-11-21 v1
摘要
我们报道了不同厚度Si和Ge薄膜的GIXRR、UV-VIS NIR和XPS测量结果。GIXRR测量显示这些薄膜顶部无氧化物存在，而XPS测量显示少量氧化物。此外，表面粗糙度随厚度急剧增加，与薄膜的柱状生长一致。相比之下，Si薄膜中层内甚至存在极少量氧化物，但在GIXRR/吸收测量中未被检测到。
引用
@article{arxiv.1711.07174,
title = {Structural, Optical and Electronic properties of Magnetron Sputtered Si and Ge thin films},
author = {Aniruddha Dutta and Shilpa Tripathi and Ranjeet Kumar Brajpuriya and Anupam Sharma and Thoudinja Shripathi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1711.07174},
year = {2017}
}
备注
5 pages, 4 figures