高功率脉冲磁控溅射沉积磁性氮化铁薄膜的研究
材料科学
2014-11-25 v2
摘要
在本工作中，我们研究了使用高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）和直流磁控溅射（dc-MS）沉积的氮化铁（Fe-N）薄膜的相形成、结构和磁性。在 HiPIMS 和 dc-MS 过程中，系统地改变了沉积时的氮分压。对生成的 Fe-N 薄膜的微观结构、磁性能和氮浓度进行了表征。我们发现，HiPIMS 沉积的 Fe-N 薄膜表现出球状纳米晶微观结构和改进的软磁性能。此外，还发现与 dc-MS 相比，HiPIMS 中的氮反应性受到阻碍。所得结果可以用 HiPIMS 独特的等离子体特性来解释。
引用
@article{arxiv.1411.1614,
title = {Study of magnetic iron nitride thin films deposited by high power impulse magnetron sputtering},
author = {Akhil Tayal and Mukul Gupta and Ajay Gupta and V. Ganesan and Layanta Behera and Surendra Singh and Saibal Basu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1411.1614},
year = {2014}
}
备注
7 Pages, 7 Figures