共溅射Fe0.8C0.2薄膜的结构与磁学性质
材料科学
2020-01-22 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们研究了在300、523和773\,K衬底温度(\Ts)下,通过Fe和C靶直流磁控溅射(dcMS)共溅射沉积的 \FeC~薄膜的结构与磁学性质。分别使用X射线衍射(XRD)、Fe 边与C 边X射线吸收近边结构谱(XANES)以及原子力/磁力显微镜(AFM、MFM)测量其结构与形貌。在较厚 \FeC~层之间置入超薄(3\,nm) \FeC~层,利用深度剖析测量估算不同 \Ts~下生长过程中发生的Fe自扩散。该 \FeC~层也用于 Fe转换电子穆斯堡尔谱(CEMS)与核共振散射(NRS)测量,从而得到此超薄层的磁结构。我们从XRD测量发现,低 \Ts~(300\,K)下形成的结构类似于Fe基非晶合金,而在高 \Ts~(773\,K)下主要形成了 \tifc~相。有趣的是,在中间 \Ts~(523\,K)下,从NRS谱中可清晰看到 \tefc~(连同 \tifc~与Fe)的存在。AFM图像所得的微观结构与XRD结果一致。MFM图像也与NRS结果吻合良好,因为在 \Ts~= 523\,K生长的样品中可清晰看到多磁组分的存在。从Fe 与C 边XANES获得的Fe与C杂化信息也支持其他测量所得结果。本质上,本工作实验实现了 \tefc~。可以预期,通过进一步微调沉积条件,甚至可实现单相 \tefc~,这至今仍是一项实验挑战。
引用
@article{arxiv.1907.05150,
title = {Structural and magnetic properties of co-sputtered Fe0.8C0.2 thin films},
author = {Prabhat Kumar and V. R. Reddy and V. Ganesan and I. Sergueev and O. Leupold and H. -C. Wille and Mukul Gupta},
journal= {arXiv preprint arXiv:1907.05150},
year = {2020}
}
备注
11 pages, 9 figures