共溅射外延 Fe-Sn kagome 薄膜的结构与磁学性质
材料科学
2026-01-12 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
近年来,Fe 和 Sn 的金属间化合物合金因其丰富的磁学性质而引起了人们的极大兴趣。晶体 Fe3Sn2 是一种受挫铁磁体,而晶体结构相似的 FeSn(其区别仅在于含 Fe 的 kagome 层和锡烯层的堆垛顺序)则是一种反铁磁体。磁控溅射等薄膜生长技术允许在其他所有条件保持不变的情况下,通过调节单个 Fe 和 Sn 源的沉积速率来生长这些不同化学计量比的成分。在此,我们报告了在带有 Pt 种子层的蓝宝石衬底上制备高质量 FeSn 和 FeSn 外延薄膜,以及包含两种晶体共生相的混合相薄膜,并使用 X 射线和四维扫描透射电子显微镜 (4D-STEM) 方法对所有薄膜进行了表征。我们将得到的晶体相含量与磁化强度测量结果进行了比较,发现预测的铁磁相含量与所得磁化强度之间存在对应关系。随后,还可以对这些薄膜的进一步磁学性质进行比较,从而在高度混合相合金中发现了一种独特的温度依赖性矫顽力行为,这一特征在纯 Fe3Sn2 和 FeSn 中均不存在。
引用
@article{arxiv.2601.05735,
title = {Structural and magnetic properties of co-sputtered epitaxial Fe-Sn kagome thin films},
author = {Callum Brennan-Rich and Sean M. Collins and Stuart Micklethwaite and Zabeada Aslam and Trevor Almeida and Stephen McVitie and Rik M. Drummond-Brydson and Christopher H. Marrows},
journal= {arXiv preprint arXiv:2601.05735},
year = {2026}
}
备注
9 pages, 5 figures