添加 Al 和 Ti 形成氮化铁薄膜
材料科学
2012-09-25 v1
摘要
本工作研究了使用 2 at.% Al 或 2 at.% Ti 作为添加剂形成氮化铁 相的过程。样品采用磁控溅射技术制备，在沉积过程中使用不同量的氮气。氮分压 (\pn) 在 0-50% 之间变化（其余为氩气），并溅射纯 Fe、[Fe+Ti] 和 [Fe+Al] 靶材。当使用 \pn 10\p 溅射时，添加少量 Ti 或 Al 可改善软磁性能。当 \pn 增加至 50\p 时，形成非磁性 Fe-N 相。我们发现，在 \pn =50% 且添加 Al 或 Ti 时形成氮化铁单氮化物 相（N at% 50），而在无此类添加剂时形成 \eFeN 相（N\pat 30）。研究发现，添加 Al 或 Ti 可显著提高整体氮含量。基于所得结果，我们提出了一种描述添加 Al 和 Ti 形成 Fe-N 相的机制。
关键词
引用
@article{arxiv.1109.2725,
title = {Formation of iron nitride thin films with Al and Ti additives},
author = {Rachana Gupta and Akhil Tayal and Mukul Gupta and Ajay Gupta and M. Horisberger and J. Stahn},
journal= {arXiv preprint arXiv:1109.2725},
year = {2012}
}
备注
9 Pages, 7 Figures