掺杂剂对氮化铁薄膜热稳定性和自扩散的影响
材料科学
2014-10-15 v1
摘要
我们研究了掺杂剂 (Al, Ti, Zr) 对使用直流磁控溅射技术制备的氮化铁薄膜热稳定性的影响。对沉积样品的结构和磁性表征表明，掺杂显著改善了氮化铁薄膜的热稳定性以及软磁性能。为了理解观测到的结果，我们进行了详细的 Fe 和 N 自扩散测量。观察到 Al 掺杂抑制了 N 的自扩散，而 Ti 或 Zr 掺杂导致 N 扩散稍快。另一方面，任何氮化物生成热显著小于氮化铁的掺杂剂似乎都会抑制 Fe 的自扩散。重要的是，观察到与 Fe 自扩散相比，N 自扩散在影响氮化铁薄膜热稳定性方面仅起次要作用。基于所得结果，讨论了掺杂剂对自扩散过程的影响。
引用
@article{arxiv.1406.3446,
title = {Effect of dopants on thermal stability and self-diffusion in iron nitride thin films},
author = {Akhil Tayal and Mukul Gupta and Ajay Gupta and M. Horisberger and Jochen Stahn and Kai Schlage and H. -C. Wille},
journal= {arXiv preprint arXiv:1406.3446},
year = {2014}
}
备注
10 pages, 9 figs