Cu掺杂ZnO薄膜中空穴介导的铁磁性
介观与纳米尺度物理
2011-06-30 v1
摘要
我们报道了成功合成的掺入空穴的 ZnO:Cu 薄膜，该薄膜表现出室温铁磁性。空穴掺杂是通过在热退火辅助下 As 从 GaAs 衬底向 ZnO 薄膜扩散实现的。通过在 As K 边采集的 X 射线吸收谱探测了 As 扩散，该谱显示了退火样品中扩散特征的增强。由于 As 掺杂而在 ZnO 薄膜中引入空穴这一事实，进一步被 Cu L3,2 边光谱所证实。XMCD 和磁性测量表明，掺杂 Cu 离子间的铁磁相互作用在空穴掺杂后得到增强。
引用
@article{arxiv.1106.5831,
title = {Hole mediated ferromagnetism in Cu-doped ZnO thin films},
author = {Abhinav Pratap Singh and B. -G. Park and Ik-Jae Lee and Kyu Joon Lee and Myung-Hwa Jung and Jinhee Kim and J. -Y. Kim},
journal= {arXiv preprint arXiv:1106.5831},
year = {2011}
}
备注
14 pages, 3 figures