磁控溅射 AlN 沉积物的微结构图：非晶与纳米结构薄膜
材料科学
2019-09-05 v1 光学
摘要
为获得均匀的纳米结构氮化铝沉积物，采用射频磁控反应溅射在室温下于 [001] Si 衬底上生长薄膜。通过透射电子显微镜、能量色散 X 射线谱和俄歇电子能谱对沉积物进行分析。研究了其微结构和化学成分随等离子体工作压强与射频功率的变化。对薄膜截面视图的系统分析使作者能够绘制微结构/工艺参数图。根据沉积速率的降低区分出四种微结构类型。其一为众所周知的柱状微结构。第二种由中断的柱体或纤维状晶粒构成。第三种由纳米尺寸颗粒构成（颗粒尺寸范围为 1.7 至 8 nm）。第四种也是最后一种微结构为非晶态。对“沉积物形貌-工艺参数”关联性进行了讨论。
引用
@article{arxiv.1909.01579,
title = {Microstructures Diagram Of Magnetron Sputtered Aln Deposits : Amorphous And Nanostructured Films},
author = {Valerie Brien and P. Pigeat},
journal= {arXiv preprint arXiv:1909.01579},
year = {2019}
}