纳米团簇的弹道沉积
材料科学
2016-03-22 v1
摘要
纳米多孔薄膜是一类重要的材料，提供了一种利用比单个原子大但足够小从而可通过应力和表面迁移等机制显著相互作用的粒子来观察基本表面和体相过程的途径。采用原位X射线反射率（X-ray Reflectivity）和掠入射小角X射线散射（GISAXS）监测由二硅化钨（WSi）和铜（Cu）纳米团簇生长的薄膜。纳米团簇直径尺寸范围为2 nm至6 nm，通过等离子体-气体凝聚的高压磁控溅射制备。在生长的各个阶段对薄膜进行X射线反射率（XRR）测量，揭示所得薄膜表现出非常低的密度，接近块体密度的15%。这与简单的非晶格弹道沉积模型一致，其中粒子在首次接触点粘附而不发生进一步重构。此外，这些薄膜中团簇几乎不发生合并或烧结。
引用
@article{arxiv.1603.06051,
title = {Ballistic Deposition of Nanoclusters},
author = {Jeffrey G. Ulbrandt and Yang Li and Randall L. Headrick},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.06051},
year = {2016}
}
备注
5 pages with 4 figures and one table