纳米雕刻薄膜厚度随入射角的变化

纳米雕刻薄膜厚度的现场监测和校准是一个关键问题，因为衬底倾斜角会导致孔隙率和质量通量变化。在本文中，我们提出了一种针对纳米雕刻薄膜厚度受制造参数影响的解析模型。该模型的通用性体现在：包括普适高斯型通量分布、非单位粘附系数、可变偏轴传感器位置以及衬底倾斜。所得方程与实验数据拟合得很好。结果可针对在法向入射条件下沉积的薄膜进行具体化。