斜沉积 HfO2 薄膜的微观粗糙度参数与光学性质表征
材料科学
2015-10-27 v1
摘要
通过改变沉积角度来调节微观结构，斜角沉积氧化物薄膜在制造沿厚度方向具有定制折射率分布的光学干涉器件方面开辟了新维度。薄膜的微观结构强烈影响表面形貌以及光学性质。由于表面形貌在评估薄膜器件用于光学或其他应用的合格性方面起着重要作用，因此研究其形貌性质非常重要。在本工作中，HfO2 薄膜在多个斜角下沉积。通过对扩展功率谱密度函数进行适当建模，确定了此类薄膜的形貌统计参数，即相关长度、本征粗糙度、分形谱强度等。本征粗糙度和分形谱强度随沉积角度表现出有趣的行为，并在原子遮蔽、再发射和 ad-atoms 扩散的背景下对此进行了讨论。此外，还从透射光谱中估算了此类薄膜的折射率和厚度。折射率和晶粒尺寸随沉积角度呈现出相反的趋势，其变化已通过随沉积角度变化的柱倾斜角和薄膜孔隙率进行了解释。
引用
@article{arxiv.1510.07378,
title = {Characterization of Micro-Roughness Parameters and Optical Properties of Obliquely Deposited HfO2 Thin Films},
author = {R B Tokas and S Jena and P Sarkar and S Thakur and N K Sahoo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1510.07378},
year = {2015}
}
备注
23 pages including figures