含氧钇氢化物薄膜在沉积期间及沉积后的光学性质

光致变色 YHO 薄膜的合成基于沉积钇氢化物在环境条件下的氧化。沉积过程中薄膜的实际状态受沉积压力和残余气体引起的氧化影响，尚未完全明了。我们报道了通过反应式脉冲直流磁控溅射沉积的 YHxOy 薄膜。由于可见光透射率与薄膜的相和化学成分密切相关，我们在沉积期间及沉积后进行了原位透射率测量。利用非原位光谱椭偏仪测定了 YHxOy 沿膜厚方向的光学常数。为获得金属性 YH2-x 薄膜，需要具有高沉积速率的尽可能致密的结构，否则薄膜在沉积过程中可能已部分透明。沉积压力升高时透射率更高。这是由于微观结构更疏松生长所促进的氧化所致，这在薄膜的表面和截面图像中观察到。薄膜呈现出垂直于衬底表面的折射率梯度，这与孔隙率及化学成分的变化有关。