用于低辐射涂层的直流磁控溅射制备 ITO 薄膜的电学与光学特性
材料科学
2014-09-19 v1
摘要
应用优化的直流磁控溅射系统在玻璃基底上沉积透明导电氧化物（TCOs），如氧化铟锡（ITO），以实现低辐射（low-e）透明涂层。为了获得所需的电阻率和高红外反射率，首先研究了施加的溅射功率和随后氧气流量对薄膜特性的影响，其他沉积参数保持不变。在 400 摄氏度温度和 3 Standard Cubic Centimeters per Minute 氧气流量下沉积薄膜，可得到透明且具有红外反射特性的涂层。在此条件下，红外区域（=3-25 micron）达到的最高平均反射率为 89.5%（最低发射率小于 11%），而可见光区域的透射率约为 85%。测量了等离子体波长和载流子浓度。
引用
@article{arxiv.1409.5293,
title = {Electrical and optical properties of ITO thin films prepared by DC magnetron sputtering for low-emitting coatings},
author = {Hadi Askari and Hamidreza Fallah and Mehdi Askari and Mehdi Charkhchi Mohmmadieyh},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.5293},
year = {2014}
}
备注
8 pages, 4 figures, 2 tables