第二部分：玻璃基板上超薄氧化铟锡的超短脉冲激光图案化
应用物理
2020-08-13 v1 材料科学
光学
摘要
我们研究使用 343、515 和 1030 nm 飞秒（fs）以及 1030 nm 皮秒（ps）激光脉冲对玻璃基板上 20 nm 超薄氧化铟锡（ITO）薄膜进行选择性图案化。在所有波长下、飞秒与皮秒时间尺度均观察到烧蚀去除机制。确定的吸收阈值能量密度值为：飞秒激光在 343 nm 下 12.5 mJ/cm2、515 nm 下 9.68 mJ/cm2、1030 nm 下 7.50 mJ/cm2，以及皮秒激光在 1030 nm 下 9.14 mJ/cm2。使用原子力显微镜对烧蚀坑的表面分析证实，薄膜从玻璃基板的选择性去除依赖于所施加的能量密度。研究表明薄膜去除主要通过由电子爆炸力产生的超快晶格形变实现。利用双温模型（TTM）模拟了激光吸收与加热过程。预测的表面温度证实，在 1 J/cm2 以下的薄膜去除主要以非热机制为主。
引用
@article{arxiv.2008.05294,
title = {Part2: Ultra-short pulse laser patterning of very thin indium tin oxide on glass substrates},
author = {Cormac McDonnell and David Milne and Helios Chan and Danijela Rostohar and Gerard O'Connor},
journal= {arXiv preprint arXiv:2008.05294},
year = {2020}
}