氧化铟锡薄膜中光克尔非线性对载流子浓度的依赖
材料科学
2009-11-11 v1
摘要
使用200飞秒激光脉冲在720至780 nm波长范围内对镀在玻璃基底上的n型氧化铟锡（ITO）薄膜进行了Z扫描测量，测量了其光克尔非线性（n2）。发现ITO薄膜中测量的非线性幅度依赖于载流子浓度，在720 nm波长和电子密度Nd = 5.8 x 10^20 cm^-3时，n2最大值达到4.1 x 10^-5 cm^2/GW。还观察到克尔非线性随激光波长变化。通过采用飞秒时间分辨光克尔效应（OKE）技术，确定了ITO薄膜中OKE的弛豫时间约为1 ps。这些发现表明，ITO中的克尔非线性可以通过控制载流子浓度来调控，这在超快全光开关的光电器件中应具有很高的应用价值。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0604652,
title = {Carrier concentration dependence of optical Kerr nonlinearity in indium tin oxide films},
author = {Hendry Izaac Elim and Wei Ji and Furong Zhu},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0604652},
year = {2009}
}
备注
15 pages, 1 table, 4 figures