高 a 轴取向 AlN 薄膜的光学性质与硬度
材料科学
2015-03-20 v4
摘要
本文首次报道了鲜有研究的高 a 轴取向 AlN 薄膜的光学和纳米力学性质。这些薄膜采用反应直流磁控溅射技术在 180 mm 的最佳靶基距下沉积。Bragg-Brentano 几何 X 射线和摇摆曲线（FWHM = 52 arcsec）研究证实了其择优取向。光谱椭偏仪显示，这些薄膜在 546 nm 波长处的折射率为 1.93。这些薄膜的硬度和弹性模量分别为 17 GPa 和 190 GPa。此处获得的力学性能远高于先前报道的值，因此可用作热打印装置中的保护涂层以及体声波谐振器中的压电薄膜。
引用
@article{arxiv.1208.5299,
title = {Optical properties and hardness of highly a-axis oriented AlN films},
author = {Feby Jose and R. Ramaseshan and S. Tripura Sundari and S. Dash and M. S. R. N. Kiran and A. K. Tyagi and U. Ramamurty},
journal= {arXiv preprint arXiv:1208.5299},
year = {2015}
}
备注
7 pages, 4 figures