用于 SRF 腔体表面改性的大曲率表面等离子体处理
加速器物理
2015-06-23 v1 等离子体物理
摘要
基于等离子体的铌表面改性是超导射频 (SRF) 腔体湿法刻蚀的一种极具前景的替代方案。基于 Cl2/Ar 等离子体刻蚀的该技术开发必须解决若干影响刻蚀速率和表面粗糙度并最终决定腔体性能的关键参数。这包括该工艺对射频发生器频率、气体压力、功率水平、驱动（内部）电极构型以及等离子体处理期间混合气体中氯浓度的依赖关系。为了展示在非对称非平面几何结构中的表面层去除，我们使用了一个简单的圆柱形腔体，其上对称分布有 8 个端口。这些端口用于诊断等离子体参数并作为待刻蚀样品的支架。刻蚀速率与内电极形状、射频 (RF) 电路元件、Cl2/Ar 混合气体中的氯浓度、活性物质的停留时间以及腔体温度高度相关。通过使用可变半径的圆柱形电极、大表面环形样品以及在外部电路中实现直流偏压，我们展示了可观的平均刻蚀速率，并概述了相对于最大表面处理效应来优化等离子体特性的可能性。
引用
@article{arxiv.1411.0175,
title = {Plasma Processing of Large Curved Surfaces for SRF Cavity Modification},
author = {J. Upadhyay and Do Im and S. Popović and A. -M. Valente-Feliciano and L. Phillips and L. Vušković},
journal= {arXiv preprint arXiv:1411.0175},
year = {2015}
}