650 MHz 铌超导射频腔的电抛光工艺条件研究
加速器物理
2022-08-10 v1
摘要
PIP II 直线加速器包含多种类型的铌超导射频腔，包括 650 MHz 椭球低 (0.61) 与高 (0.92) β 腔。椭球腔表面采用电抛光方法处理。椭球腔尤其是低- 650 MHz 腔在标准电抛光条件下处理后，其赤道表面呈现粗糙。本工作重点研究不同电抛光参数（包括阴极表面积、温度与电压）的影响，并对其进行优化以改善腔体表面。
引用
@article{arxiv.2208.04424,
title = {Study on Electropolishing Conditions for 650 MHz Niobium SRF Cavity},
author = {V. Chouhan and D. Bice and F. Furuta and M. Martinello and M. K. Ng and H. Park and T. Ring and G. Wu and B. Guilfoyle and M. P. Kelly and T. Reid},
journal= {arXiv preprint arXiv:2208.04424},
year = {2022}
}