用于加速器应用的氮掺杂铌的 XPS 研究
加速器物理
2018-04-23 v1 应用物理
摘要
对用于制造超导射频(SRF)腔的铌(Nb)样品进行了氮掺杂研究。样品的表面处理试图复现 Nb SRF 腔的工艺,包括重度电解抛光(EP)、氮掺杂以及随后不同去除量的 EP。采用 XPS 研究了经不同后处理的 Nb 样品的表面化学成分。给出了在气体团簇离子束(GCIB)刻蚀前后 Nb、O、C 和 N 的化学成分。在 GCIB 刻蚀前,采用 2/6 配方的任何掺杂 Nb 样品表面均未发现弱超导氮化物 NbNx 的信号。然而,即使在采用 2/6 配方氮掺杂处理后直接的 Nb 样品中,在大于 30 nm 的深度范围内,N 元素含量也低于 XPS 检测精度范围。
引用
@article{arxiv.1804.07487,
title = {XPS studies of nitrogen doping niobium used for accelerator applications},
author = {Ziqin Yang and Xiangyang Lu and Weiwei Tan and Jifei Zhao and Deyu Yang and Yujia Yang and Yuan He and Kui Zhou},
journal= {arXiv preprint arXiv:1804.07487},
year = {2018}
}
备注
14 pages, 18 figures