电解抛光对氮掺杂与未掺杂铌表面的影响
应用物理
2022-08-10 v1
摘要
氮掺杂（N-doped）铌（Nb）超导射频（SRF）腔的冷电解抛光（EP）被发现可改善其品质因数。为理解EP温度对N-doped与未掺杂表面的影响，以2/0 N-doped及热处理Nb样品在烧杯中进行了系统的EP研究。Nb样品在0至42 ℃的不同表面温度下进行电解抛光。结果表明，掺杂表面在EP期间易受样品温度影响。EP导致掺杂样品表面点蚀，且点蚀的数密度随温度升高而增加。将表面结果与一个经2/0 N-doped并电解抛光的9腔腔体截面的表面进行了比较。本文展示了在不同温度电解抛光的N-doped与未掺杂Nb表面的详细表面特征。
引用
@article{arxiv.2208.04392,
title = {Effect of Electropolishing on Nitrogen Doped and Undoped Niobium Surfaces},
author = {V. Chouhan and F. Furuta and M. Martinello and T. Ring and G. Wu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2208.04392},
year = {2022}
}