650 MHz 铌腔电解抛光优化的最新进展
加速器物理
2024-01-30 v1
摘要
对 1.3 GHz 铌超导射频腔进行电解抛光（EP），是为了获得所需的光滑且无污染的表面，从而实现良好的射频性能。研究发现，使用标准 EP 条件获得大型椭球腔的光滑表面具有挑战性。这项工作旨在进行系统的参数化 EP 研究，以理解各种 EP 参数对质子改进计划-II（PIP-II）直线加速器中使用的 650 MHz 铌腔表面的影响。本研究中优化的参数使腔体获得了光滑的表面。经过电解抛光的腔体显示出显著更高的加速梯度，满足了基准要求，并合格进行进一步的表面处理以提高腔体品质因数。
引用
@article{arxiv.2401.15157,
title = {Latest Development of Electropolishing Optimization for 650 MHz Niobium Cavity},
author = {V. Chouhan and D. Bice and D. Burk and S. Chandrasekaran and A. Cravatta and P. Dubiel and G. V. Eremeev and F. Furuta and O. Melnychuk and A. Netepenko and M. K. Ng and J. Ozelis and H. Park and T. Ring and G. Wu and B. Guilfoyle and M. P. Kelly and T. Reid},
journal= {arXiv preprint arXiv:2401.15157},
year = {2024}
}
备注
SRF2023