用于超导射频低温模组原位场致发射抑制的等离子体处理
加速器物理
2022-03-24 v1
摘要
场致发射(FE)是加速器运行中的超导射频(SRF)腔的主要限制因素之一，每当腔体高电场区表面存在尘埃、金属屑甚至吸附物等污染物时就会发生。场致发射会降低可达到的最大加速场，并产生可能与束流相互作用、损坏或活化束流线的自由电子。缓解此问题的一种实用方法是原位等离子体清洗，或称等离子体处理。开发可原位应用的处理方法极具优势，因为它能在无需拆卸整个低温模组的情况下恢复其性能，而拆卸是一项极其昂贵且耗时的过程。另一方面，等离子体处理仅需将低温模组升温至室温，随后对受污染的腔体进行处理。整个过程相当迅速，且只需有限数量的人员参与。出于这些原因，我们主张继续投资等离子体处理的研发，以优化其在低温模组中的适用性，并将该技术推广到其他频率范围和腔体几何结构。
引用
@article{arxiv.2203.12442,
title = {Plasma Processing for In-Situ Field Emission Mitigation of Superconducting Radiofrequency (SRF) Cryomodules},
author = {M. Martinello and P. Berrutti and B. Giaccone and S. Belomestnykh and M. Checchin and G. V. Eremeev and A. Grassellino and T. Khabibouilline and A. Netepenko and R. Pilipenko and A. Romanenko and S. Posen and G. Wu and D. Gonnella and M. Ross and J. T. Maniscalco and T. Powers},
journal= {arXiv preprint arXiv:2203.12442},
year = {2022}
}
备注
contribution to Snowmass 2021