用于光机械器件的大面积高应力氮化硅薄膜的微加工
量子物理
2016-06-08 v1
摘要
鉴于薄膜谐振子与更复杂MEMS结构的集成，我们开发了一种使用深反应离子刻蚀(DRIE)制造圆形SiN薄膜的通用工艺。制造了大尺寸高应力SiN薄膜，并用作迈克尔逊干涉仪和法布里-珀罗腔中的光机械谐振子。测量表明该制造工艺保持了薄膜的光学质量和机械品质因数。
引用
@article{arxiv.1601.02669,
title = {Microfabrication of large area high-stress silicon nitride membranes for optomechanical devices},
author = {E. Serra and M. Bawaj and A. Borrielli and G. Di Giuseppe and S. Forte and N. Kralj and N. Malossi and L. Marconi and F. Marin and F. Marino and B. Morana and R. Natali and G. Pandraud and A. Pontin and G. A. Prodi and M. Rossi and P. M. Sarro and D. Vitali and M. Bonaldi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1601.02669},
year = {2016}
}