氮化硅薄膜阵列的光学与力学表征
光学
2017-05-01 v1 量子物理
摘要
我们报道了平行微机械薄膜阵列的光学和力学表征。将两张高拉伸应力、100 nm厚的氮化硅薄膜彼此平行组装，间距从 8.5 到 200 m 不等。利用宽带和单色照明相结合的方法精确测定了它们的光学性质，并通过干涉法确定了最低振动模式频率和机械品质因数。所展示的结果和技术对于研究光机阵列中的集体现象很有前景。
引用
@article{arxiv.1701.04554,
title = {Optomechanical characterization of silicon nitride membrane arrays},
author = {Bhagya Nair and Andreas Naesby and Aurélien Dantan},
journal= {arXiv preprint arXiv:1701.04554},
year = {2017}
}
备注
5 pages, 5 figures