毫开尔文温度下品质因子超过$10^8$的氮化硅薄膜谐振器
介观与纳米尺度物理
2016-01-12 v2
摘要
我们利用三维光力学腔研究了毫米尺寸、高高品质因子()金属化氮化硅薄膜的基模的机械耗散，温度低至14 mK。在200 mK以下，薄膜的高模显示出随温度降低而发散式增长，在14 mK达到，比先前报道的高一个数量级。超低耗散使得这些薄膜对于量子区域光力学研究极具吸引力，也适用于其他光力学应用如微波至光学光子转换。
引用
@article{arxiv.1510.07468,
title = {Silicon nitride membrane resonators at millikelvin temperatures with quality factors exceeding $10^8$},
author = {Mingyun Yuan and Martijn A. Cohen and Gary Steele},
journal= {arXiv preprint arXiv:1510.07468},
year = {2016}
}
备注
12 pages, 4 figures