具有薄金属涂层的自支撑膜的发射率
介观与纳米尺度物理
2016-01-20 v1
摘要
厚度低至几十纳米的自支撑氮化硅膜被用作 TEM 窗口或软 X 射线光谱纯度滤波器。随着膜厚度的减小，其发射率趋于零，这限制了辐射散热及对热负荷的抵抗力。我们表明，厚度约为 1 nm 的薄金属层可将薄膜的发射率提高两到三个数量级，接近 0.5 的理论极限。这显著提高了膜在真空环境中的热负荷能力。我们的实验结果与经典理论相符，其中我们在 Drude 和 Lorentz 振子中引入了依赖于厚度的散射项。
引用
@article{arxiv.1511.06111,
title = {Emissivity of freestanding membranes with thin metal coatings},
author = {P. J. van Zwol and D. F. Vles and W. P. Voorthuijzen and M. Péter and H. Vermeulen and W. J. van der Zande and J. M. Sturm. R. W. E. van de Kruijs and F. Bijkerk},
journal= {arXiv preprint arXiv:1511.06111},
year = {2016}
}
备注
5 pages, 5 figures