低应力氧化硅的红外介电特性
光学
2021-01-29 v1 天体物理仪器与方法
材料科学
摘要
氧化硅薄膜在实现光学涂层和高性能电子电路中起着重要作用。针对一种常用配方的低应力氧化硅，根据其观测到的透射谱推导了远红外与中红外波段的介电函数估计值。文中给出了用于提取介电函数的实验、建模与数值方法。
引用
@article{arxiv.1603.04815,
title = {Infrared dielectric properties of low-stress silicon oxide},
author = {Giuseppe Cataldo and Edward J. Wollack and Ari D. Brown and Kevin H. Miller},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.04815},
year = {2021}
}
备注
4 pages, 3 figures, 1 table