反铁电氧化物薄膜：基础、性质与应用
材料科学
2023-12-29 v1
摘要
反铁电材料因在储能、固态制冷、热开关、换能器、致动器和存储器件等领域的广泛应用潜力而备受关注。其中许多应用以薄膜形式最具前景。薄膜中的反铁电序对晶格应变、薄膜厚度、表面与界面效应以及薄膜化学计量比等丰富因素高度敏感。为充分释放这些材料的潜力并设计用于功能器件的高质量薄膜，全面系统地理解其行为至关重要。结合反铁电必要的基础背景，我们综述了各种反铁电氧化物薄膜的最新进展、触发其相变的关键参数，以及依赖于对电、热和光刺激的稳健响应的器件应用。当前的挑战与未来展望突出了该领域新兴的研究方向。希望本综述能推动反铁电薄膜材料与器件设计的发展，激励更多研究者共同探索未知领域。
引用
@article{arxiv.2312.16806,
title = {Antiferroelectric Oxide Thin-Films: Fundamentals, Properties, and Applications},
author = {Yangyang Si and Tianfu Zhang and Chenhan Liu and Sujit Das and Bin Xu and Roman G Burkovsky and Xian-Kui Wei and Zuhuang Chen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2312.16806},
year = {2023}
}
备注
Accepted by Progress in Materials Science, Article reference JPMS_101231