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硅(111)表面二维电子系统的输运性质

材料科学 2009-11-11 v1 强关联电子

摘要

我们理论研究了场效应晶体管(FET)结构中氢钝化Si(111)表面上二维电子系统的输运性质。我们利用包含屏蔽带电杂质散射的半经典玻尔兹曼理论,计算了最近制备的Si(111)-真空FET的密度和温度相关的迁移率及电阻率。我们发现与相应的实验输运性质合理吻合,表明随机带电杂质产生的屏蔽无序势是主要的散射机制。我们还发现,谷简并度gv=2g_v=2的理论结果比gv=6g_v=6的情况与实验吻合得更好,表明该系统中硅通常的体六重谷简并被解除。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0608645,
  title  = {Transport properties of two-dimensional electron systems on silicon (111) surfaces},
  author = {E. H. Hwang and S. Das Sarma},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0608645},
  year   = {2009}
}

备注

4 pages, 2 figures