聚焦电子束诱导沉积过程的多尺度模拟
材料科学
2020-12-02 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
聚焦电子束诱导沉积是一种用于三维打印复杂纳米器件的强大技术。然而，在低于10纳米的分辨率下，由于缺乏对底层辐照驱动化学的分子级理解，该技术在控制结构的尺寸、形貌和成分方面面临困难。计算建模是理解和进一步优化FEBID相关技术的工具。本文采用一种新颖的多尺度方法，将辐射输运的蒙特卡罗模拟与辐照驱动分子动力学相结合，以原子级分辨率模拟IDC。通过对SiO₂上W(CO)₆沉积及其后续电子辐照的深入分析，我们提供了FEBID过程及其内在操作的全面描述。我们的分析表明，这些模拟在建模FEBID过程中取得了前所未有的结果，与模拟纳米材料成分、微观结构和生长速率随初级束参数变化的现有实验数据表现出极好的一致性。
引用
@article{arxiv.2006.04085,
title = {Multiscale simulation of the focused electron beam induced deposition process},
author = {Pablo de Vera and Martina Azzolini and Gennady Sushko and Isabel Abril and Rafael Garcia-Molina and Maurizio Dapor and Ilia A. Solov'yov and Andrey V. Solov'yov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2006.04085},
year = {2020}
}
备注
Main text: 9 pages, 4 figures; Supplementary information: 11 pages, 6 figures, 1 table