单层MoS$_2$中的域内周期缺陷
材料科学
2017-05-22 v1
摘要
我们展示了在硅衬底上通过化学气相沉积生长的二硫化钼薄膜中结构缺陷的超高真空扫描隧道显微镜（STM）研究。观察到一种独特的晶界周期性地排列在孤立的三角形域内，以及其他各种类型的域间晶界。这些周期缺陷相距约50纳米，宽度几纳米，在光学或低分辨率显微镜研究中仍然隐藏。我们报告了一种复杂的生长机制，该机制产生二维成核和螺旋生长特征，可以解释我们薄膜中的形貌。
引用
@article{arxiv.1705.03051,
title = {Intra-Domain Periodic Defects in Monolayer MoS$_2$},
author = {Anupam Roy and Rudresh Ghosh and Amritesh Rai and Atresh Sanne and Kyounghwan Kim and Hema C. P. Movva and Rik Dey and Tanmoy Pramanik and Sayema Chowdhury and Emanuel Tutuc and Sanjay K. Banerjee},
journal= {arXiv preprint arXiv:1705.03051},
year = {2017}
}
备注
To appear in Appl. Phys. Lett. 13 pages, 3 figures. Includes Supplementary Material