基于摩擦与剪切力显微镜的过渡金属硫族化物单层的微观结构与弹性常数
材料科学
2019-08-22 v1
摘要
通过化学气相沉积(CVD)生长的二维过渡金属硫族化物(TMDCs)的光学与电学性质强烈取决于其微观结构。因此,空间结构变化的 visualization 对未来应用至关重要。在此,我们展示了如何借助横向力显微镜(LFM)与横向剪切显微镜(TSM)的组合,在与光电子应用相关的长度尺度上,明确识别CVD生长的二硫化钨(WS2)单层中的晶界、晶体取向与应变场。此外,角度依赖的TSM测量使我们能够实验获取单层WS2的四阶弹性常数。我们的结果促进了单层TMDCs的高通量、非破坏性微观结构可视化,并深入揭示了其弹性性质,从而提供了一种易用的工具,以支持基于此类二维半导体的先进光电子器件的发展。
引用
@article{arxiv.1908.07843,
title = {Microstructure and Elastic Constants of Transition Metal Dichalcogenide Monolayers from Friction and Shear Force Microscopy},
author = {Xiaomin Xu and Thorsten Schultz and Ziyu Qin and Nikolai Severin and Benedikt Haas and Sumin Shen and Jan N. Kirchhof and Andreas Opitz and Christoph T. Koch and Kirill Bolotin and Jürgen P. Rabe and Goki Eda and Norbert Koch},
journal= {arXiv preprint arXiv:1908.07843},
year = {2019}
}