探索极紫外辐射在氩气中诱导等离子体的电子密度
等离子体物理
2015-07-07 v1
摘要
新一代光刻工具使用高能极紫外 (EUV) 辐射，该辐射因光电离而电离现有的背景气体。为了预测和理解这种 EUV 诱导等离子体对高度精密镜面的长期影响，对其进行表征至关重要。我们通过应用微波腔共振光谱法，测量了氩气在 13.5 nm 短脉冲 EUV 光照射期间及刚结束后的电子密度演化。我们在与工业应用相关的范围内探索了对 EUV 脉冲能量和气体压力的依赖性。我们的实验结果表明，达到的最大电子密度与脉冲能量呈线性关系。在改变气体压力的实验中，发现了由光电离和随后的自由电子碰撞电离引起的二次方依赖关系。本手稿中提出的理论估计也证明了这一点。
引用
@article{arxiv.1503.08989,
title = {Exploring the electron density in plasmas induced by extreme ultraviolet radiation in argon},
author = {R. M. van der Horst and J. Beckers and E. A. Osorio and V. Y. Banine},
journal= {arXiv preprint arXiv:1503.08989},
year = {2015}
}
备注
submitted to J. Phys. D. 16 pages, 8 figures