放电产生的等离子体极紫外（EUV）源及用于研究EUV诱导过程的超高真空腔室
等离子体物理
2015-06-18 v1 仪器与探测器
摘要
描述了一个直接再现极紫外光刻相关条件以进行详细组件暴露测试的实验装置。该EUV装置包括：工作在13.5 nm的脉冲等离子体辐射源；碎片减缓系统；收集和滤波光学器件；以及配备光学和等离子体诊断的UHV实验腔室。给出了识别EUV诱导等离子体的物理参数和演化的初步结果。最后，简要讨论了原位诊断的适用性和准确性。
引用
@article{arxiv.1411.4505,
title = {Discharge-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source and ultra high vacuum chamber for studying EUV-induced processes},
author = {A Dolgov and O Yakushev and A Abrikosov and E Snegirev and V M Krivtsun and C J Lee and F Bijkerk},
journal= {arXiv preprint arXiv:1411.4505},
year = {2015}
}
备注
12 pages, 8 figures