用于扫描机原位清洁的微型等离子体源
等离子体物理
2021-06-21 v1
摘要
EUV光刻是亚10nm光刻高量产(HVM)的首选技术。其挑战之一是实现在不打开扫描机工具的情况下对传感器、基准标记和干涉仪镜片等功能表面的原位清洁。热产生的氢自由基已成功用于此目的。这些源具有有限的清洁速度，且对被清洁表面有相对较高的热负载。在此我们提出一种替代的基于等离子体的技术，可同时产生氢自由基和氢离子。这显著提高了清洁速度，同时降低了总体热负载。作为额外益处，该等离子体源具有最小化且灵活的结构体积，便于集成到EUV光刻扫描机中的不同位置。
引用
@article{arxiv.2106.09944,
title = {Miniature Plasma Source for In-Situ Scanner Cleaning},
author = {Mark van de Kerkhof and Edgar Osorio and Vladimir Krivtsun and Maxim Spiridonov and Viacheslav Medvedev and Dmitry Astakhov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2106.09944},
year = {2021}
}