用于 EUV 光刻的激光产生锡等离子体的多诊断表征
等离子体物理
2026-02-04 v1
摘要
本文介绍了综合性表征激光产生的锡（Sn）等离子体，这些等离子体与极端紫外（EUV）光刻相关，采用集成到新实验平台“SparkLight”中的多诊断套件。通过激光脉冲（1064 nm, 10 ns, 最高达 W/cm）照射不断移动的锡涂层线丝来产生锡等离子体，并通过相干 Thomson 散射、激光干涉和 EUV 发射光谱进行探测。Thomson 散射测量揭示了电子温度和密度沿距离从靶标位置的衰减趋势。从 Thomson 散射得到的密度与激光干涉测得的密度进行交叉验证，结果表明二者具有良好的一致性。将这些激光诊断结果与空间分辨的 EUV 光谱相关联，表明有用 EUV 发射的主要来源位于靶标附近 150 m 范围内，且在亚最优等离子体条件下产生。本工作展示了等离子体 EUV 源开发中实用的方法。
关键词
引用
@article{arxiv.2602.03583,
title = {Multi-Diagnostic Characterization of Laser-Produced Tin Plasmas for EUV Lithography},
author = {Stanislav Musikhin and Anatoli Morozov and Alec Griffith and Shurik Yatom and Ahmed Diallo},
journal= {arXiv preprint arXiv:2602.03583},
year = {2026}
}