面向离子阱量子计算机的原位清洗
量子物理
2012-09-11 v2 等离子体物理
摘要
使用传统微波炉创建了等离子体辉光放电系统，用于点燃并维持等离子体。该系统用于等离子体清洗，并分析其性能以评估去除保罗阱电极表面污染物（导致异常加热）的可行性。定性结果表明，氩等离子体可在1-2分钟内去除薄片上形成的氧化铜层。在等离子体系统中加入空气可清洗更复杂的碳氢化合物污染物，如去除永久性记号笔所示。通过测量去除垫圈和铝板上的镀金层所需时间，评估了系统的表面去除速率。在最佳条件下，标称速率为5-15 nm/min。与仅用丙酮清洗相比，等离子体处理结合湿化学清洗可将光学腔的精细度提高两倍。这些结果对于该系统在保罗阱电极上的原位应用具有前景，并可能成为延长其寿命的可行技术。
引用
@article{arxiv.1207.1901,
title = {Towards in-situ cleaning of a trapped ion quantum computer},
author = {Timothy Harrison},
journal= {arXiv preprint arXiv:1207.1901},
year = {2012}
}
备注
A Part III Project at the University of Cambridge Physics department under the supervision of Prof. Michael K\"ohl in the Atomic and Optical Physics department: http://www.quantumoptics.eu Thanks is given to Prof. Michael K\"ohl,Matthias Steiner and Hendrik Meyer for their help and advice. SEE VIDEOS: http://youtu.be/8rUrHVuBlc8 SEE HIGH RES PDF: http://dl.dropbox.com/u/79619909/th347project.pdf