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等变 Plateau 问题

微分几何 2007-05-23 v2

摘要

(M,Q)(M,Q) 为严格负截面曲率的紧三维流形。设 (Σ,P)(\Sigma,P) 为双曲型(即亏格至少为二)的紧可定向曲面。设 θ:π1(Σ,P)π1(M,Q)\theta:\pi_1(\Sigma,P)\to\pi_1(M,Q) 为一个同态。将 Gallo、Kapovich 与 Marden 近期关于具有指定holonomy的复射影结构存在之充要条件的结论推广到非常数负曲率流形,我们得到了 Σ\Sigma 上存在所谓的 θ\theta-等变 Plateau 问题的 θ\theta 所满足的必要条件,这等价于存在一个实现 θ\theta(即满足 θ=i\theta=i_*)的严格凸浸入 i:ΣMi:\Sigma\to M

关键词

引用

@article{arxiv.math/0602271,
  title  = {Equivariant Plateau Problems},
  author = {Graham Smith},
  journal= {arXiv preprint arXiv:math/0602271},
  year   = {2007}
}

备注

47 pages, 2 figures, considerably shortened version containing much the same content as before