利用反应磁控溅射沉积化学计量比涂层
材料科学
2022-07-28 v1 其他凝聚态物理
摘要
对金属-类金属化学计量比涂层的反应磁控溅射沉积进行了研究。研究了靶材溅射参数与样品表面金属-类金属等离子化学形成过程及相应结构涂层形成之间的关系。给出了AlN、Al2O3、TiN、TiO2化学计量比涂层的实验数据。阐述了反应磁控溅射的特征及研究结果，以实现具有预定性能的涂层，特别是保证涂层沉积过程随时间的稳定性与可控性。关键词：反应磁控溅射、涂层、氧化物、氮化物化合物。
引用
@article{arxiv.2207.13323,
title = {Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering},
author = {A. Sagalovych and S. Dudnik and V. Sagalovych},
journal= {arXiv preprint arXiv:2207.13323},
year = {2022}
}