磁控溅射沉积制备的纳米谐振器性能研究
应用物理
2018-08-15 v1
摘要
磁控溅射是一种用于工程和医学应用纳米材料加工的完美技术。通过控制磁控溅射的参数，可加工具有特定机械性能、微观结构和表面纹理的材料。因此，应开展研究以考察加工条件对磁控溅射加工纳米材料性能的影响。本研究中，揭示了加工力对磁控溅射制备的微/纳米谐振器性能的影响。加工力定义为溅射功率与基板移动速度之比。通过比较基板移动速度与溅射粒子的沉积速率，推导了厚度和表面纹理随加工力演化的关系。这些关系的系数针对由 FeNiCr 合金制成的机械谐振器进行了实验测定。随后，描绘了这些谐振器的固有频率随磁控溅射加工力和溅射粒子沉积速率的变化。结果表明，在设计磁控溅射制备的机械谐振器时，应特别考虑加工条件的影响。
引用
@article{arxiv.1801.06529,
title = {On performance of nano-resonators produced by magnetron sputtering deposition},
author = {Mohamed Shaat},
journal= {arXiv preprint arXiv:1801.06529},
year = {2018}
}
备注
10 Pages and 5 Figures