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通过直流磁控溅射沉积控制主要c面或m面晶面的镁纳米结构

材料科学 2024-02-06 v1 应用物理

摘要

镁纳米结构在储氢、催化、废物处理和储热等应用中日益增多。目前,大多数纳米颗粒是通过化学合成方法制备的,这需要使用有机溶剂,并且产生的材料被配体覆盖。要应用这些纳米颗粒,必须将其用于涂料或浆料中以涂覆表面,这又会产生废物。在这篇通讯中,我们探索了通过磁控溅射这种物理技术制备镁纳米结构的可能性,并控制其晶体学性质,即构成颗粒外表面的主要晶面类型。我们展示了通过应用不同的工艺参数,可以获得主要c面、混合或主要m面的纳米结构。由于与表面相关的吸附过程与晶面类型密切相关,本报告提出了一种清洁、无废物且可大规模扩展的方法,用于开发定制的纳米结构镁涂层。

关键词

引用

@article{arxiv.2402.03298,
  title  = {Mg nanostructures with controlled dominant c-plane or m-plane facets by DC magnetron sputter deposition},
  author = {Michał A. Borysiewicz and Patrycja Barańczyk and Aleksandra Wójcicka and Jakub Zawadzki and Marek Wzorek and Rafał Zybała},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2402.03298},
  year   = {2024}
}

备注

7 pages, 7 figures, 2 tables