带有Nb中间层的磁控溅射NbN薄膜
材料科学
2010-12-30 v1
摘要
通过反应直流磁控溅射，在不同N2流量和衬底偏压下，在不锈钢衬底上沉积了NbN薄膜。研究了N2流量和衬底偏压对沉积速率、表面硬度、晶体结构和附着力的影响。优化了沉积NbN涂层的工艺参数。然后，在MS衬底上直接沉积NbN涂层，以及先通过磁控溅射沉积Nb中间层再沉积NbN涂层。中间层厚度为2微米。通过努氏显微压痕法研究了双层涂层在表面硬度方面的改进，并通过动电位极化技术研究了其耐腐蚀性能。还测量了开路电位。
引用
@article{arxiv.1012.5503,
title = {Magnetron Sputtered NbN Films with Nb Interlayer},
author = {Kulwant Singh and A. C. Bidaye and A. K. Suri},
journal= {arXiv preprint arXiv:1012.5503},
year = {2010}
}
备注
12 pages, 7 tables, 15 figures