一种用于多变量简单线性轮廓第二阶段监控的新方法
应用统计
2019-11-12 v1
摘要
质量控制中一个近期备受关注的领域是轮廓，它通过两个或更多变量之间的关系来刻画产品或过程的质量。本文中，我们提出一种 EWMA 控制图用于多变量简单线性轮廓的第二阶段监控，其中若干相关响应变量与一个解释变量具有线性关系。该方案的统计性能通过失控平均运行长度进行评估。尽管其对小偏移很少报警，但在检测中与大偏移时优于以往工作。
引用
@article{arxiv.1911.03971,
title = {A new method for phase II monitoring of multivariate simple linear profiles},
author = {Seyed Nasser Moosavi and Mohammad Saleh Owlia and Ashkan Khalifeh},
journal= {arXiv preprint arXiv:1911.03971},
year = {2019}
}